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포토리소[photolithography] - 가공방법 및 적용분야에 마주향하여

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작성일18-02-11 13:48

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Download : 포토리소[photolithography] - 가공방법 및 적용분야에 대해서.pptx




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포토리소(Photolithography)
가공방법 및 적용분야에 관련되어
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2
1. 개요
1.1 포토리소그래피(Photolithography)란?
원하는 회로설계를 유리판 위에 금속패턴으로 만들어 놓은
마스크(mask)라는 원판에 빛을 쬐어 생기는 그림자를
웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는 기술

Fig. 1. The basic concept of Photolithography.

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3
1.2 포토리소그래피 장비의 기본적 형태
- 광학계에 따른 방식
근접 노광방식(proximity printing)
투영 노광방식(projection printing)
Fig. 2. Schematic diagram of photolithography systems.
<물리학과 첨단기술 January/February 2xxx 특집 page 3>
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4
2. 공정 과정

포토리소그래피 : Basic Steps in Chip Manufacturing

Fig. 3.
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5

2.1 Silicon with Oxide Layer
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6
Coater 제조회사

-TEL(83%)
-Dainippon(8%)
-ASML(4%)
KCTEC
Spinless Coater
PR사용량 1/10
Fig. 4 Coater
EUVL Symposium, J. Yeo (2009).
2.1 Silicon with Oxide Layer - Coater
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7

2.2 Expose Photoresist
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Fig. 5 Scaner
Hankook Industry co., LTD
2.2 Expose Photoresist - Sc…(투비컨티뉴드 ) aner
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2.3 Develop Photoresist
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10
Fig. 6 Stepper
Harry J. Levinson, Principles of Lithography, 2nd ed. (2004).
2.3 Develop Photoresist - Stepper
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Fig. 7 Water immersion
EUV Symposium, Rard de Leeuw (2xxx).
2.3 Develop Photoresist - Immersion
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12

2.4 Etch Oxide Layer
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3. 발전 전망
3.1 최근의 연구 동향

KrF 레지스트






ArF 레지스트
고집적화
->레지스트 두께감소
->건식 에칭 내성 강화



투영성, 건식 에칭 내성,
접착characteristic(특성) 요구
-> methacrylate polymer에
도입
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3.2 포토리소 산업 전망 - 포토마스크
Fig. 8. 세계 포토마스크시장 동향
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3.2 포토리소 산업 전망 - 포토리소그래피
Fig. 10.

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4. 결론
Photolitography공정은 빛에 반응하는 화학물질의 원리를 이용, 얻고자 하는 패턴(Pattern)을 선택적으로 조사함으로써 동일한 패턴을 형성시키는 공정이다.
Photolitography기술은 현재 전 세계적으로 각광받고 있으며, 국내 산업기술이 세계시장에서 높은 점유를 보이며 앞으로도 더욱 많은 발전이 기대된다.
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Reference
2page Fig.1 ASML Hompage
3page Fig.2 물리학과 첨단기술 January/Fabruary 2xxx특집 page 3
4page Fig.3 (c)2008,Arunn Narasimhan
6page Fig.4 EU


레포트/기타

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